产品中心
PRODUCT CENTER
1.设备内部组件为陶瓷及碟片结构，零污染，采用的是特殊碟片离心分散器。
2.磨介具备的运动轨迹使得研磨效率大大提升。
3.专用于碳纳米管分散研磨，可适用于高粘度≤80000厘泊物料研磨分散，无筛网设计，高产能，无金属污染，合适的固含量范围内使用0.8mm研磨介质。
4.设备采用触摸屏自动控制，实现一键启停功能，具有气源压力、机封压力等实时监控报警功能。
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2.磨介具备的运动轨迹使得研磨效率大大提升。
3.专用于碳纳米管分散研磨，可适用于高粘度≤80000厘泊物料研磨分散，无筛网设计，高产能，无金属污染，合适的固含量范围内使用0.8mm研磨介质。
4.设备采用触摸屏自动控制，实现一键启停功能，具有气源压力、机封压力等实时监控报警功能。
1.设备内部组件为陶瓷及碟片结构，零污染，采用的是特殊碟片离心分散器。
2.磨介具备的运动轨迹使得研磨效率大大提升。
3.专用于碳纳米管分散研磨，可适用于高粘度≤80000厘泊物料研磨分散，无筛网设计，高产能，无金属污染，合适的固含量范围内使用0.8mm研磨介质。
4.设备采用触摸屏自动控制，实现一键启停功能，具有气源压力、机封压力等实时监控报警功能。
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2.磨介具备的运动轨迹使得研磨效率大大提升。
3.专用于碳纳米管分散研磨，可适用于高粘度≤80000厘泊物料研磨分散，无筛网设计，高产能，无金属污染，合适的固含量范围内使用0.8mm研磨介质。
4.设备采用触摸屏自动控制，实现一键启停功能，具有气源压力、机封压力等实时监控报警功能。
谭志勇 189 2898 8999
谭志刚 139 2895 0998
湖北襄阳市东津新区(经开区)赋能路1号（智造产业园）
广东广州市增城区新塘镇塘美村富岭路39号（湾区研发中心）